법무부 글로벌창업이민센터에서 외국인 기술창업자를 대상으로 한 지원 프로그램 「2026 OASIS-3(지식재산권 출원 지원)」 1기 참여자를 모집합니다. 한국에서 기술창업 또는 창업이민에 관심 있는 분들께 유용한 프로그램입니다. (본 과정은 영어로 진행됩니다.)
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🟣 과정명 : 지식재산권 출원 지원(OASIS-3) 1기
🟣 운영목적 : 지식재산권 소양교육(OASIS-1,2) 우수 수료자 중 창의성과 사업성이 우수한 아이디어를 보유한 참가자를 대상으로, 특허·실용신안·디자인 출원 전반에 대한 맞춤형 지원 제공
🟣 모집대상 : OASIS-1 및 OASIS-2 과정을 수료하고, 국내에서 기술창업을 하고자 하는 합법 체류 외국인 중 창의성과 사업성이 우수한 아이디어 보유자
🟣 지원분야 : 특허, 실용신안, 디자인 출원 (저작권·상표는 지원 대상에서 제외)
🟣 모집기간 : 2026년 7월 9일(목) ~ 7월 19일(일) 24:00까지
🟣 지원방법 : ① 지재권별 출원신청서(해당 시 첨부자료 포함) ② 참여신청서 ③ 참여서약서 ④ 체류자격 증빙 서류 ⑤ OASIS-1·OASIS-2 이수증을 이메일(oasis@kmac.co.kr)로 제출
🟣 심사방식 : 서류 심사 (지식재산권 3개 분야별로 각각 다른 심사기준·필요서류 적용)
🟣 최종선발 : 2026년 7월 30일(목)
🟣 참여혜택 : 변리사 1:1 출원 컨설팅(1인당 2회), 선행기술조사 지원, 예산 범위 내 출원비용 일부 지원(1인 1건)
👉 상세 안내 및 신청 양식 : www.oasis-kmac.kr
많은 관심과 참여 부탁드립니다!
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